Enorme Bildschärfe, detailgetreue Tiefendarstellung, brillante Farben, hohe Kontraste: Dafür stehen Ultra-HD-Fernseher. Kernelement dieser Fernseher mit extrem hoher Bildauflösung sind Dünnschichttransistoren, die mit dem bisher gängigen Halbleitermaterial aus amorphem Silizium nun an die Grenzen ihrer Leistungsfähigkeit stoßen, erklärt Evonik Industries. Die Antwort auf diese Herausforderung möchte das Unternehmen mit dem neuen anorganischen Metalloxid-Halbleitermaterial iXsenic geben. Es soll nicht nur höhere Bildauflösungen ermöglichen, sondern auch die Produktionskosten verringern. Erste Kunden testen bereits, wie sie iXsenic in ihre Produktlinien integrieren könnten, heißt es.
Das anorganische Metalloxid-Halbleitermaterial iXsenic ermögliche nicht nur eine höhere Leistung als amorphes Silizium, sondern lasse sich zudem bei normalen Umgebungsbedingungen als Lösung auftragen, schildert Evonik. Gegenüber dem üblichen Verarbeitungsprozess von amorphem Silizium – Aufdampfen im Vakuum – würde damit die Herstellung einfacher und ressourcenschonender. Auch soll durch niedrige Verarbeitungstemperaturen die Verwendung neuer Materialien, wie etwa Kunststoffe für flexible Displays, ermöglicht werden.
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